半导体材料单层六角磷化硼的光学性质计算分析研究

来源 :安徽建筑大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:LinChu41
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磷化硼材料是由两种轻元素硼和磷通过共价键而形成的三五族化合物,它具有合适的带隙,较高的载流子迁移率和较好的化学稳定性等优良性质,有望在电子器件领域成为潜在的候选材料。本文通过基于密度泛函理论的第一性原理计算了单层六角磷化硼的能带结构和电子态密度,在此基础上计算并分析了单层六角磷化硼的光学性质。研究结果表明:单层六角磷化硼为直接带隙半导体,带隙为0.903 eV,费米面附近的能带主要由硼和磷原子的pz轨道电子贡献。此外,单层六角磷化硼材料能较好地吸收可见光。
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