【摘 要】
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采用直流磁控溅射方法在Si基片上制备[Fe/Pt] n 薄膜,利用X射线荧光光谱仪（XRF）、X射线衍射仪（XRD）和振动样品磁强计（VSM）分析薄膜的组分、结构和磁性.研究结果表明：[Fe/Pt] n 薄膜
【机 构】
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吉林师范大学物理国家级实验教学示范中心,吉林师范大学功能材料物理与化学教育部重点实验室
【基金项目】
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四平市科技发展计划项目（2016047）
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采用直流磁控溅射方法在Si基片上制备[Fe/Pt] n 薄膜,利用X射线荧光光谱仪（XRF）、X射线衍射仪（XRD）和振动样品磁强计（VSM）分析薄膜的组分、结构和磁性.研究结果表明：[Fe/Pt] n 薄膜经过600 ℃快速热处理,得到了L1 0-FePt薄膜.对于[Fe（ x nm）/Pt（0.5 nm）] n 薄膜,当Fe层厚度为0.7 nm时,薄膜的有序度最大,平行膜面和垂直膜面的矫顽力均最高;对于不同调制周期的[Fe/Pt] n 薄膜,有序度随调制周期先增大后减小,平行膜面的矫顽力均高于垂直膜面
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