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建立了一种1L慢烤燃装置模型，通过数值模拟分析其内部温场分布的影响因素和机理，通过改变模型中隔板尺寸、导流板形状、风扇数量和风扇转速等条件，研究了各种工况下烤燃装置内烧瓶周围温场分布。模拟结果表明，风扇数量与转速、隔板尺寸、导流板形状均会影响烧瓶周围温场分布的位置，但仅有风扇转速会影响温场响应的灵敏度、温场达到稳定所需时间和温场分布均匀性。理想的慢烤燃装置可实现的温场分布性能为：响应时间低于1S，达到稳定时间低于30S，均匀度在0．2℃左右。建立试验装置，在烧瓶外侧布置温度传感器，所得温场分布和温场均匀度