掺铒SiO_x1.54μm强的室温光致发光

来源 :发光学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：rentianyou123

【摘要】

：

采用等离子化学汽相淀积方法，改变ＳｉＨ４和Ｎ２Ｏ的流量比制备含有不同氧浓度的ＳｉＯｘ．用离子注入方法将铒掺入ＳｉＯｘ，经３００～９３５℃快速热退火，在波长１．５４μｍ处观察到很强的室温光致发光（ＰＬ）．发光强度随氧含量和激发功率增加

【作者】

：

陈维德马智训许振嘉何杰顾诠梁建军

【机构】

：

中国科学院半导体研究所,中国科学院凝聚态物理中心和表面物理国家重点实验室

【出处】

：

发光学报

【发表日期】

：

1999年01期

【关键词】

：

室温光致发光 SiO_x1.54 发光强度化学汽相淀积发光机理退火温度微结构快速热退火氧含量纳米硅

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采用等离子化学汽相淀积方法，改变ＳｉＨ４和Ｎ２Ｏ的流量比制备含有不同氧浓度的ＳｉＯｘ．用离子注入方法将铒掺入ＳｉＯｘ，经３００～９３５℃快速热退火，在波长１．５４μｍ处观察到很强的室温光致发光（ＰＬ）．发光强度随氧含量和激发功率增加而增加，与ＳｉＯｘ的微结构有非常密切的关系．对可能的发光机理进行了讨论

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