光发射谱对CrTiAlN涂层性能的影响

来源 :中国有色金属学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：mj830115

【摘要】

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在不同光发射谱(OEM)条件下,采用闭合场非平衡磁控溅射技术(CFUBMSIP)在SDC99冷作模具钢表面沉积CrTiAlN涂层,采用X射线衍射仪(XRD)、显微硬度仪、原位纳米力学测试系统和销

【作者】

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刘云超罗艳艳朱雪飞施雯

【机构】

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上海大学材料科学与工程学院

【出处】

：

中国有色金属学报

【发表日期】

：

2017年4期

【关键词】

：

CrTiAlN涂层光发射谱 SDC99冷作模具钢非平衡磁控溅射磨损 CrTiAlN coating optical emission monitor

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在不同光发射谱(OEM)条件下,采用闭合场非平衡磁控溅射技术(CFUBMSIP)在SDC99冷作模具钢表面沉积CrTiAlN涂层,采用X射线衍射仪(XRD)、显微硬度仪、原位纳米力学测试系统和销盘摩擦磨损试验机(POD)测试分析涂层的相结构、表面硬度以及耐磨损性能。结果表明:各条件下制备的CrTiAlN涂层均为FCC结构,且在(200)晶面择优取向;光发射谱值为65时,制备的CrTiAlN涂层具有较高的表面承载能力以及膜基结合力,纳米硬度和弹性模量分别为22.7 GPa和276.4 GPa;OEM65制备

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