EUV Lithography: State-of-the-Art Review

来源 :微电子制造学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：jshaczcl

【摘要】

：

Although several years delayed than its initial plan, extreme UV lithography (EUVL) with 13.5nm wavelength has been finally implemented into high volume manufac

【作者】

：

Nan Fu Yanxiang Liu Xiaolong M

【机构】

：

HiSiliconTechnologiesCo.Ltd

【出处】

：

微电子制造学报

【发表日期】

：

2019年2期

【关键词】

：

EUV LITHOGRAPHY EUV REVIEW MASK 3D line edge ROUGHNESS EUV light source

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Although several years delayed than its initial plan, extreme UV lithography (EUVL) with 13.5nm wavelength has been finally implemented into high volume manufacture (HVM) of mainstream semiconductor industry since 2018. With the delivery and installation

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