【摘 要】
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制造了栅长0·1μm,栅氧厚度5·6nm,栅槽180nm的SOI槽栅pMOSFET.给出了器件的转移特性和输出特性.在Vds=-1·5V时,其饱和漏电流为380μA ,关态泄漏电流为1·9nA;在Vds=-0·1V
【机 构】
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中国科学院微电子研究所,中国科学院微电子研究所,中国科学院微电子研究所,中国科学院微电子研究所 北京100029,北京100029,北京100029,北京100029
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制造了栅长0·1μm,栅氧厚度5·6nm,栅槽180nm的SOI槽栅pMOSFET.给出了器件的转移特性和输出特性.在Vds=-1·5V时,其饱和漏电流为380μA ,关态泄漏电流为1·9nA;在Vds=-0·1V下的亚阈值斜率为115 mV/dec ,DIBL因子为70·7 mV/V.实验结果表明,0·1μm SOI槽栅pMOSFET比同尺寸体硅槽栅pMOSFET拥有更好的电流驱动能力和亚阈值特性.
A SOI trench gate pMOSFET with a gate length of 0.1 μm, a gate oxide thickness of 5.6 nm and a gate width of 180 nm was fabricated. The transfer characteristics and output characteristics of the device were given. The saturation leakage current was 380 μA at Vds = -1.5 V , The off-state leakage current is 1.9 nA, the sub-threshold slope is 115 mV / dec at Vds = -0 · 1V, and the DIBL factor is 70.7 mV / V. The experimental results show that the 0.1 μm SOI trench gate pMOSFET ratio The same size bulk silicon gate pMOSFET has better current drive capability and sub-threshold characteristics.
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