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8—羟基喹啉修饰玻碳电极阳极溶出伏安法测定痕量镉

来源 :山西师范大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：hdu07095238

【摘 要】

：

以8-羟基喹啉(Ox)作为修饰剂制备化学修饰电极,用于痕量镉的伏安法测定.研究了支持电解质种类及酸度、修饰膜厚度、富集电位、富集时间、扫描速度等因素对伏安曲线的影响,获

【作 者】

：

王改萍 韩素琴 

【机 构】

：

新乡医学院基础部,山西师范大学化学系

【出 处】

：

山西师范大学学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2001年2期

【关键词】

：

8-羟基喹啉 化学修饰电极 阳极溶出伏安法 镉 hydroxyquinoline  Chemically modified electrode  Anodic 

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以8-羟基喹啉(Ox)作为修饰剂制备化学修饰电极,用于痕量镉的伏安法测定.研究了支持电解质种类及酸度、修饰膜厚度、富集电位、富集时间、扫描速度等因素对伏安曲线的影响,获得较为优化的测试条件.在0.1mol/LHAc-NaAc缓冲溶液(pH4.0)中,Cd(Ⅱ)的浓度在4.0×10-8mol/L～7.0×10-5mol/L范围内与其氧化峰电流呈良好线性关系(r=0.9933),检测限达2.0×10-8mol/L.该电极具有很好的重现性,在含2.0×10-6mol/LC

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