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探讨了微波等离子体ＣＶＤ法合成金刚石薄膜的生长机理，指出等离子体中ＣＨ３，ＣＨ２，Ｈ的含量是决定薄膜品质的关键因素。
微波CVD法合成金刚石薄膜生长机理分析
【摘 要】
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探讨了微波等离子体ＣＶＤ法合成金刚石薄膜的生长机理，指出等离子体中ＣＨ３，ＣＨ２，Ｈ的含量是决定薄膜品质的关键因素。
【机 构】
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郑州纺织工学院基础部
【出 处】
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郑州纺织工学院学报
【发表日期】
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1997年A04期
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