【摘 要】
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<正> 一、概述影响膜层厚度的因素很多。本文只考虑“几何因素”,即只考虑蒸发源的形状、位置,基片位置及其运动、监控用的比较片位置等等几何因素的影响。结果表明,现有许多
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<正> 一、概述影响膜层厚度的因素很多。本文只考虑“几何因素”,即只考虑蒸发源的形状、位置,基片位置及其运动、监控用的比较片位置等等几何因素的影响。结果表明,现有许多型号的镀膜机,其设计对几何因素的影响未予足够的重视。因此一般镀膜机,尤其是基片用平面圆盘支架的机子,一盘基片的厚度不均匀达到百分之几,甚至百分之十几。物质蒸发时的角分布也是影响均匀的因素;可是,对此尚无可靠的理论或实验数据可供应用;因此,本文作了均匀分布或余弦分布两种假设。又实际上,膜厚的监控是探测比较片。而比较片与其它片因几何位置不同,因而膜厚也
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