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低压气相合成金刚石薄膜是目前的热门课题。本文介绍用于金刚石薄膜生长而开发的ECR—PECVD装置的工作原理、基本构成、结构特点及其主要技术指标。
用于金刚石薄膜低压气相合成的ECR—PECVD装置
【摘 要】
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低压气相合成金刚石薄膜是目前的热门课题。本文介绍用于金刚石薄膜生长而开发的ECR—PECVD装置的工作原理、基本构成、结构特点及其主要技术指标。
【机 构】
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机械电子工业部第48研究所,机械电子工业部第48研究所
【出 处】
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微细加工技术
【发表日期】
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1990年2期
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