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通过控制平台移动速度来控制紫外曝光量和2次曝光的方法实现任意变迹光纤布拉格光栅的制备．该方法采用连续氩离子激光作为紫外光源，不需要光强掩模板，通过对移动平台速度的编程控制可以获得任意的光栅结构参数，如长度、变迹包络、平均折射率改变量等．在2次曝光过程中，由于对2次紫外曝光量的精确控制，整个光栅的总平均折射率变化保持不变，从而避免了由此引起的啁啾而可以获得无旁瓣窄带宽的反射光栅．采用该方法制备了一根2cm长的高斯变迹光栅，其反射带宽达到了0．15nm，反射率约为95％．