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采用传统降温方法生长了不同Ni2＋掺杂浓度的KDP晶体。实验发现当Ni2＋掺杂浓度小于1000 ppm时溶液的稳定性随着掺杂浓度的增加而提高,大于1000 ppm时溶液的稳定性开始下降,但仍高于纯态溶液的稳定性;随着Ni2＋浓度的增加KDP晶体柱面的生长死区增加,柱面的生长速度略有下降,但在生长过程中没有观察到晶体的楔化;KDP晶体的XRD分析及缺陷的研究表明Ni2＋对晶体的结构影响不明显,但晶体中的缺陷和内应力增加。