【摘 要】
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采用超高真空气相沉积系统外延硒(Se)超薄层钝化Si(100)表面,研究其与金属铝(Al)、铂(Pt)的接触特性.对于A1与Se钝化后的Si接触样品,其肖特基势垒高度(SBH)值为0.2 eV,相比于
【机 构】
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华侨大学工学院,福建泉州,362021黎明职业大学信息与电子工程学院,福建泉州,362000;
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采用超高真空气相沉积系统外延硒(Se)超薄层钝化Si(100)表面,研究其与金属铝(Al)、铂(Pt)的接触特性.对于A1与Se钝化后的Si接触样品,其肖特基势垒高度(SBH)值为0.2 eV,相比于HF处理的样品,SBH降低了一半;随着退火温度从200℃升至500℃,SBH值逐渐升高至HF处理的样品的SBH值.而对Pt与Se钝化的Si接触样品,未退火时电流电压特性基本与HF处理的样品一致,然而快速热退火后,Se钝化的样品基本保持不变,而HF处理的样品反向偏置电流迅速增大.通过拟合金半接触SBH与金属功函数的关系,得到线性关系的斜率为S=0.41,说明硒超薄层可以降低Si(100)表面与金属接触费米钉扎效应.
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