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期刊论文
光谱法控制溅射速率的研究
光谱法控制溅射速率的研究
来源 :真空科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:googoosin
【摘 要】
:
在磁控反应溅射方法制备薄膜的过程中,等离子体发出较强的光,提出了用光谱控制溅射速率方法,并以该方法ITO膜中的应用为例,说明该在实际应用中的具体过程。
【作 者】
:
王德苗
黄士勇
【机 构】
:
浙江大学信电系
【出 处】
:
真空科学与技术
【发表日期】
:
1997年5期
【关键词】
:
光谱法
溅射速率
等离子体
ITO膜
真空镀膜
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在磁控反应溅射方法制备薄膜的过程中,等离子体发出较强的光,提出了用光谱控制溅射速率方法,并以该方法ITO膜中的应用为例,说明该在实际应用中的具体过程。
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