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摘要：物理气相沉积领域中的黄铜件真空离子镀替代电镀方法，特征：在黄铜件与真空室之间加脉冲负偏压，其占空比为10％～30％，电压为100—2000V，频率为40kHz；替代电镀镍的离子镀中间层在纯金属钛及其合金或锆及其合金上，还镀有氮化钛或氮化锆，并在离子镀的中间层与黄铜件之间有1—2μm的过渡层。工艺步骤：抛光后经超声清洗、装炉抽真空，烘烤、溅射清洗、离子镀中间层，之后，或离予镀制备成品，或经离子镀TiN（或ZrN）后制备成品。优点：1．膜层中没有Ni元素，无害；2．不需要三废治理；3．镀层附着性好，致密