PYREX 7740玻璃湿法刻蚀研究

来源 :仪器仪表学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：whw123

【摘要】

：

玻璃腐蚀工艺是MEMS工艺的重要方面.本文对PYREX 7740玻璃湿法刻蚀进行研究,提出了利用铬膜和光刻胶作为掩膜,进行一次光刻、多次坚膜、多次腐蚀的工艺方法.该方法可以使掩膜

【作者】

：

郑志霞薛建国

【机构】

：

莆田学院电信系

【出处】

：

仪器仪表学报

【发表日期】

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2006年z1期

【关键词】

：

湿法腐蚀掩膜光刻 wet etching etching mask lithography

【基金项目】

：

莆田市科技计划课题(2005G21)资助项目

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玻璃腐蚀工艺是MEMS工艺的重要方面.本文对PYREX 7740玻璃湿法刻蚀进行研究,提出了利用铬膜和光刻胶作为掩膜,进行一次光刻、多次坚膜、多次腐蚀的工艺方法.该方法可以使掩膜耐蚀时间达到200多分钟,且能腐蚀出表面平整、线条清晰的十多微米的深槽.实验还得出玻璃的腐蚀速率和温度的关系以及光刻胶的耐蚀时间和温度之间的关系.

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