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用电镀方法制作磁性靶材，在真空室中增设磁场进行溅射镀Ｎｉ－Ｃｏ磁膜的方法，此方法已应用于计算机磁盘的生产中。
溅射镀Ni—Co磁性膜的研究
【摘 要】
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用电镀方法制作磁性靶材，在真空室中增设磁场进行溅射镀Ｎｉ－Ｃｏ磁膜的方法，此方法已应用于计算机磁盘的生产中。
【机 构】
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山西矿业学院矿山机械系,电子工业部工艺研究所
【出 处】
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真空科学与技术
【发表日期】
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1996年4期
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