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利用激活能测试装置测量了VHF-PECVD高速沉积的本征微晶硅薄膜的激活能，结果表明，在不同沉积条件下制备的本征微晶硅薄膜的晶化处于非晶一微晶相变域附近，激活能都偏低，存在氧污染问题．给出了氧污染解决途径．
本征微晶硅薄膜的激活能特性研究
【摘 要】
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利用激活能测试装置测量了VHF-PECVD高速沉积的本征微晶硅薄膜的激活能，结果表明，在不同沉积条件下制备的本征微晶硅薄膜的晶化处于非晶一微晶相变域附近，激活能都偏低，存在氧污
【机 构】
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滨州学院物理与电子科学系
【出 处】
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滨州学院学报
【发表日期】
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2011年6期
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