【摘 要】
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在ＥＥＰＲＯＭ的研制中，为了研究掺砷多晶硅与单晶硅氧化的相对关系，进行了８００℃湿氧氧化和１０００℃干氧氧化实验。结果表明，经过工艺优化，选择适当的工艺方案，获得了较理想的多晶硅与单晶硅氧化速率比
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在ＥＥＰＲＯＭ的研制中，为了研究掺砷多晶硅与单晶硅氧化的相对关系，进行了８００℃湿氧氧化和１０００℃干氧氧化实验。结果表明，经过工艺优化，选择适当的工艺方案，获得了较理想的多晶硅与单晶硅氧化速率比。
In the development of EEPROM, in order to study the relative relationship between arsenic-doped polycrystalline silicon and monocrystalline silicon oxidation, 800 ℃ wet oxidation and 1000 ℃ dry oxidation experiments were carried out. The results show that after the process optimization, the appropriate process scheme is selected, and the ideal ratio of polycrystalline silicon to monocrystalline silicon oxidation rate is obtained.
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