【摘 要】
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研究了碱性阻挡层抛光液中各组分对Cu、Ta和正硅酸乙酯(TEOS)去除速率的影响.通过单因素实验分别考察了磨料、FA/O Ⅱ螯合剂、KNO3和FA/O Ⅱ表面活性剂质量分数和H2 O2体积分
【机 构】
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河北工业大学电子信息工程学院,天津300130;天津市电子材料与器件重点实验室,天津 300130
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研究了碱性阻挡层抛光液中各组分对Cu、Ta和正硅酸乙酯(TEOS)去除速率的影响.通过单因素实验分别考察了磨料、FA/O Ⅱ螯合剂、KNO3和FA/O Ⅱ表面活性剂质量分数和H2 O2体积分数对Cu、Ta和TEOS去除速率的影响,再结合正交实验研发了磨料质量分数为20％、FA/O Ⅱ螯合剂质量分数为2％、H2O2体积分数为0.1％,KNO3质量分数为1.5％、FA/O Ⅱ表面活性剂质量分数为2％的碱性阻挡层抛光液,该抛光液的Cu、Ta和TEOS的去除速率选择比为1∶1.47∶1.65.对4片12英寸(1英寸=2.54 cm)65 nm铜互连图形片的M4层进行阻挡层抛光,结果显示,铜沟槽内剩余铜膜厚度约为300 nm(目标值),图形片表面缺陷数目在10颗左右,碟形坑和蚀坑深度分别由52.3 nm和40 nm降至19.9 nm和18.4 nm,铜的表面粗糙度由4.4nm降至1.9 nm.
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