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研究了氮离子（N^＋）轰击对石墨薄膜场发射特性的影响。片层石墨被N^＋轰击成较整齐排列的锥尖阵列,尖端密度-10^8cm^-2。XPS谱证实有许多N原子注入薄膜,膜内存在大量sp2杂化轨道键。场发射测试表明,经过N＋轰击,整个薄膜在场发射的均匀一致性方面有较明显的改善,场发射电流密度从0.3增大到1.65 mA/cm^2。