论文部分内容阅读
应用Judd-Oflet理论计算了新型掺铒高硅氧玻璃中铒离子的强度参量Ωt(t=2,4,6),Ω2=8.15×10-20,Ω4=1.43×10-20,Ω6=1.22×10-20,相比于其他氧化物玻璃,表现出较大的Ω2,6值,反映了铒离子周围的近邻结构不对称性和Er-O键的离子键成分较高.利用McCumber理论计算得到了能级4I13/2→4I15/2跃迁的受激发射截面为σc=0.51pm2.这种高硅氧玻璃掺铒离子浓度尽管高于石英光纤的掺杂浓度10倍左右,其荧光寿命和量子效率仍达到6.0ms和66.0%,有可能成为新的光学放大和微片激光材料.