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利用直流反应磁控溅射技术，室温下在聚脂膜基片上制备了优良的ＩＴＯ透明导电薄膜。研究了沉积速率，靶基距，氧流量以及厚度对薄膜光电性能的影响。所得薄膜的最低电阻率为４．２３×１０＾－４Ω·ｃｍ，可见光区平均透射率大于７８％。对应于低电阻率（￣１０＾－４Ω·ｃｍ）和高透射率（￣７８￥）的反应窗口较文献中已报道的数据明显扩大。