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VHF-PECVD制备不同氢稀释条件下硅薄膜特性分析

来源 :人工晶体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：ccbeilu

【作 者】

：

张晓丹 高艳涛 赵颖 朱锋 魏长春 孙建 侯国付 薛俊明 张德坤 

【出 处】

：

人工晶体学报

【发表日期】

：

2020年1期

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