应用膜片钳技术对缺氧和非缺氧两种状态下NMDA受体特性研究

来源 :中国现代药物应用 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ddnihaoba
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目的 通过对正常和缺氧条件下N-甲基-D-天冬氨酸(NMDA)受体特性进行研究,探讨下丘脑神经元缺氧损伤的机理,为临床防治脑缺血/缺氧损伤提供实验依据.方法 取材于新生SD大鼠下丘脑视前区/下丘脑前区(PO/AH)神经元应用膜片钳单通道记录技术对缺氧和非缺氧两种状态下NMDA受体特性进行研究,观察其在缺氧和非缺氧条件下的翻转电位、电流幅度、电导特性的变化.结果 神经元缺氧后其通道内向电流幅值由平均(4.501±0.980)pA(n=20,40 mV)上升为(6.000±1.750)pA
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