Si上Si1-xGex:C 缓冲层的载流子分布

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zjc823455041

【摘要】

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用化学气相淀积方法在Si(100)衬底上生长了Ge组分渐变的Si1-xGex:C合金缓冲层.研究表明,较高温度下生长的Si1-xGex:C缓冲层中Ge的平均含量较高,其晶体质量要优于较低温度下生

【作者】

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夏冬梅王荣华王琦韩平梅琴陈刚谢自力修向前朱顺

【机构】

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南京大学物理学系,南京电子器件研究所重点实验室

【出处】

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半导体学报

【发表日期】

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2007年z1期

【关键词】

：

化学气相淀积 Si1-xGex:C缓冲层载流子

【基金项目】

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国家重点基础研究发展规划(批准号:2006CB604900),国家高技术研究发展规划(批准号:2006AA03A103,2006AA03A142),国家自然科学基金(批准号:60421003),高等学校博士学科点专项科研基金(批准号:20050284004)和单片集成电路与模块国家级重点实验室2006年度基金(批准号:9140C1404010605)资助项目

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用化学气相淀积方法在Si(100)衬底上生长了Ge组分渐变的Si1-xGex:C合金缓冲层.研究表明,较高温度下生长的Si1-xGex:C缓冲层中Ge的平均含量较高,其晶体质量要优于较低温度下生长的外延薄膜.载流子浓度沿衬底至表面方向逐渐上升且Si1-xGex:C缓冲层总体呈p型导电,存在一局域n型导电区,本文对其导电分布特性进行了分析研究.

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