论文部分内容阅读
采用直流溅射法,以纯锡为靶材制备出了SnO_2纳米薄膜,并利用X射线衍射仪、透射电镜及台阶仪对纳米薄膜的物相结构及厚度进行了分析测试。结果表明：采用单晶硅作为衬底时可以制备出晶态的SnO_2纳米薄膜,该纳米薄膜由粒径几纳米到十几纳米的SnO_2小颗粒组成,而采用载玻片作为衬底时则制备出了非晶态的SnO_2纳米薄膜;通过控制溅射时间,可以得到一系列不同厚度的SnO_2纳米薄膜,直流溅射法制备SnO_2纳米薄膜的膜厚公式为d=0.29UIt（其中d为薄膜厚度,,1=0.1 nm;U为溅射电压,V;I为溅射