Hybrid functional IrO2-TiO2 thin film resistor prepared by atomic layer deposition for thermal inkj

来源 :中国有色金属学报:英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:stonefountain
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IrO2-TiO2 thin films were prepared by atomic layer deposition using Ir(EtCp)(COD) and titanium isopropoxide (TTIP). The resistivity of IrO2-TiO2 thin films can be easily controlled from 1 500 to 356.7 μΩ·cm by the IrO2 intermixing ratio from 0.55 to
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