二氧化硅为基础的光学三防保护膜

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本文采用了价格较便宜的石英石作为原材料,用电子束蒸发淀积法,研制成功了以二氧化硅为基础的光学三防保护膜。该薄膜能耐湿热25天,耐盐雾14天。同时采用四乙氧基硅烷为原材料,用旋转法也研制了以二氧化硅为基础的光学三防膜。本文还讨论了SiO2薄膜虽在热基底上凝聚,其结构基本上是无晶形。但通过湿热、盐雾等环境试验以及加镀FS-46膜后的效应,可以推断出SiO2薄膜还是有针孔的显微结构,该结果与H·K·Pulker等人采用水蒸气吸附法的结论相一致。
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