论文部分内容阅读
通过直流反应磁控溅射制备了不同Mo掺杂量的Mo-TiO2薄膜．用原子力显微镜（AFM）、X射线衍射（XRD）仪、X射线光电子能谱（xPs）仪、紫外．可见（UV-Vis）分光光度计详细研究了Mo掺杂量对薄膜表面形貌、晶体结构、元素价态及吸收带边的影响．用瞬态光电流和循环伏安法考察了不同Mo含量ITO／Mo-TiO2电极的光电特性．结果表明：在TiO2薄膜中掺入的Mo以Mo^6＋和Mo^5＋两种价态存在：随着Mo掺杂量的增加，Mo—TiO2薄膜的晶粒尺寸逐渐减小，晶格畸变增大，吸收阈值显著红移：薄膜的禁带宽度