镁合金微弧氧化陶瓷膜层研究进展

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介绍了微弧氧化技术的基本原理,综述了镁合金微弧氧化陶瓷层的组织结构、生长规律及其性能,总结和分析了不同工艺参数,如电压、电流密度、频率、占空比、电解液的电导率、添加剂等对陶瓷层性能的影响规律,同时对当前镁合金微弧氧化的设备研究进行了介绍。提出了在微弧氧化技术研究开发时应注意的问题,即加强微弧氧化技术基础理论的研究,促进微弧氧化技术的工业化应用。
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