【摘 要】
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为解决多尺度共存掩膜电沉积件的厚度不均问题,提出了直线状超微阳极扫描式电沉积加工技术,研究分析了共基底批量电沉积微构件和宏-微组合构件时的厚度均匀性及其影响因素,并
【机 构】
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河南理工大学特种加工技术与装备研究所
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目(51875178),河南省高等学校重点科研项目计划(19A460022)
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为解决多尺度共存掩膜电沉积件的厚度不均问题,提出了直线状超微阳极扫描式电沉积加工技术,研究分析了共基底批量电沉积微构件和宏-微组合构件时的厚度均匀性及其影响因素,并与传统电沉积技术进行对比。结果表明:厚度均匀性受工作间隙和电沉积特征区结构尺寸影响较大,工作间隙越小、结构尺寸越小,电铸件的厚度均匀性越好,而几乎不受移动速度和极间电压的影响。相比常规掩膜电沉积技术,超微阳极扫描式掩膜电沉积可获得厚度均匀性更佳的电沉积制件。
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