高密度磁记录用部分晶化钡铁氧体薄膜

来源 :城市道桥与防洪 | 被引量 : 0次 | 上传用户：fsmwx

【摘要】

：

对于沉积态非晶薄膜,通过严格控制其快速热处理时间,从而制备出了部分晶化钡铁氧体薄膜.原子力显微镜(AFM)观察表明,与完全晶化的薄膜相比,部分晶化的薄膜具有更光滑的表面.

【作者】

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白建民刘小晰谢天魏福林杨正松本光功

【机构】

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兰州大学磁性材料研究所,兰州730000日本国信州大学工学部工学科,日本国长野市若里500,380;

【出处】

：

城市道桥与防洪

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

钡铁氧体薄膜溅射镀膜 ΔΜ值部分晶化

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对于沉积态非晶薄膜,通过严格控制其快速热处理时间,从而制备出了部分晶化钡铁氧体薄膜.原子力显微镜(AFM)观察表明,与完全晶化的薄膜相比,部分晶化的薄膜具有更光滑的表面.振动样品磁强计(VSM)的测量结果表明,这种薄膜具有非常低的ΔΜ值.这主要是由于磁性粒子之间存在非磁性相,使得磁性粒子之间的磁耦合减小的缘故.

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