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铜纳米孪晶层在冷轧变形中的结构演变

来源 :电子显微学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：xinguan701
【摘 要】
：
利用电解沉积技术可制备出纳米结构材料,而在电解沉积出的样品中常常含有高密度的生长孪晶[1].利用电解沉积技术制备的高纯度、高致密度的块状Cu在室温下冷轧后,延伸率高达51
【作 者】
：
卢秋虹 隋曼龄 李斗星 
【机 构】
：
中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家（联合）实验室,中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家（联合）实验室
【出 处】
：
电子显微学报
【发表日期】
：
2004年4期
【关键词】
：
纳米结构 铜纳米孪晶层 冷轧变形 电解沉积技术 高分辨电子显微镜 
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利用电解沉积技术可制备出纳米结构材料,而在电解沉积出的样品中常常含有高密度的生长孪晶[1].利用电解沉积技术制备的高纯度、高致密度的块状Cu在室温下冷轧后,延伸率高达5100%,且冷轧过程中无加工硬化效应产生[2].本文通过JEM-2010高分辨电镜(HRTEM)观察,研究了这种电解沉积Cu样品的纳米孪晶层在冷轧后的微观结构,探讨了纳米孪晶层对形变的影响.
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