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InP/空气隙结构的制作与特性
InP/空气隙结构的制作与特性
来源 :光电子.激光 | 被引量 : 0次 | 上传用户:tom1313
【摘 要】
:
研究了采用不同溶液制作InP/空气隙的侧向腐蚀工艺,对腐蚀速率、晶向选择性、表面形貌进行了分析;研究了粘附释放工艺;在上述基础上制作完成了InP/空气隙结构,并采用微拉曼光谱来分
【作 者】
:
刘成
曹春芳
劳燕锋
曹萌
吴惠桢
【机 构】
:
中国科学院上海微系统与信息技术研究所,上海空间电源研究所
【出 处】
:
光电子.激光
【发表日期】
:
2008年9期
【关键词】
:
InP/空气隙
侧向腐蚀
微拉曼光谱
InP/air-gap
lateral etching
micro-Rarnan spectrum
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研究了采用不同溶液制作InP/空气隙的侧向腐蚀工艺,对腐蚀速率、晶向选择性、表面形貌进行了分析;研究了粘附释放工艺;在上述基础上制作完成了InP/空气隙结构,并采用微拉曼光谱来分析其应力分布情况,证实了制作工艺的可靠性。
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