温度对高甲烷含量下直流热阴极PCVD法制备纳米金刚石膜的影响

来源 :牡丹江师范学院学报：自然科学版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：jiangjunaiai

【摘要】

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采用直流热阴极等离子体化学气相沉积（PCVD）技术,在CH4,H2流量分别为6sccm和200sccm,反应室气压为6×103 Pa时,通过改变基底温度,制备金刚石膜.采用拉曼光谱仪、扫描电镜和X射

【作者】

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昊春雷郑友进王明磊张军姜宏伟刘艳凤

【机构】

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牡丹江师范学院黑龙江省新型炭基功能与超硬材料重点实验室,黑龙江牡丹江,157011

【出处】

：

牡丹江师范学院学报：自然科学版

【发表日期】

：

2011年4期

【关键词】

：

直流热阴极 PCVD 纳米金刚石膜

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采用直流热阴极等离子体化学气相沉积（PCVD）技术,在CH4,H2流量分别为6sccm和200sccm,反应室气压为6×103 Pa时,通过改变基底温度,制备金刚石膜.采用拉曼光谱仪、扫描电镜和X射线衍射分析仪对样品进行表征.结果表明：利用直流热阴极PCVD方法,在较高的甲烷含量、较低的反应室气压及较低的基底温度下,可以制备出质量较好的纳米金刚石膜,随着基底温度的降低,晶粒尺寸减小,非金刚石相增多,膜的质量下降.

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