【摘 要】
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实验研究了表面粗糙度、侧壁垂直度与各刻蚀参量之间的关系，通过对刻蚀效果的分析，发现在低功率、高CHF3含量、低压强的情况下能获得最小的表面粗糙度；在高功率、50％CHF3含量、低
【机 构】
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东南大学电子科学与工程学院先进光子学中心
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实验研究了表面粗糙度、侧壁垂直度与各刻蚀参量之间的关系，通过对刻蚀效果的分析，发现在低功率、高CHF3含量、低压强的情况下能获得最小的表面粗糙度；在高功率、50％CHF3含量、低压强的情况下能获得较陡直的波导侧壁。利用优化的刻蚀条件，对PMMA进行刻蚀，得到了均方根粗糙度小、侧壁陡直的波导。实验发现，该刻蚀条件对其他聚合物光波导材料的刻蚀也具有一定的指导意义。
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