【摘 要】
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铁电薄膜是一类重要的功能材料,是近年来高新技术研究的前沿和热点之一。金属有机化学气相沉积(MOCVD)是制备铁电薄膜的一种重要方法。综述了金属有机化学气相沉积法制备铁电
【机 构】
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重庆大学材料科学与工程学院,重庆科技学院冶金与材料工程学院,
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铁电薄膜是一类重要的功能材料,是近年来高新技术研究的前沿和热点之一。金属有机化学气相沉积(MOCVD)是制备铁电薄膜的一种重要方法。综述了金属有机化学气相沉积法制备铁电薄膜的历史、原理、工艺参数、特点和采用此方法制备出的某些材料的铁电性能。
Ferroelectric thin films are an important class of functional materials and one of the forefront and hot spots of high and new technology research in recent years. Metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) is an important method for preparing ferroelectric thin films. The history, principle, process parameters, characteristics and ferroelectric properties of some ferroelectric thin films prepared by MOCVD are reviewed.
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