Tcc表面处理铜箔工艺研究

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本文所介绍Tcc铜箔处理新工艺,是一个用铜箔作阴极通以高电流,把铜镀在铜箔上形成粗糙铜层的处理过程。本文并对影响处理过程的诸因素进行简要的阐述。 This article describes the new Tcc copper foil processing technology, is a copper cathode for high current, the copper plating on the copper foil to form rough copper layer process. This article also briefly describes the factors affecting the process.
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