含氮聚硅氧烷配位体及其Cu~(2+)络合物的介电性能

来源 :高分子材料科学与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户:mangshengsun1
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研究了n-β(氨乙基)-γ(氨丙基)三乙氧基硅烷[NH2(CH2)2NH(CH2)3Si(OEt)3]与二甲基二乙氧基硅烷[(CH3)2Si(OEt)2]共水解,制备含CH2)3NH(CH2)2NH2功能基的聚硅氧烷配位体。用IR,1HNMR和元素分析法对水解产物分析证明,NH2(CH2)2NH(CH2)3Si(OEt)3与(CH3)2Si(OEt)2进行了共水解反应,而且水解程度随NH2(CH2)2NH(CH2)3Si(OEt)3比例增加而提高。用紫外-可见光谱法考察发现,共聚产物可以与Cu2+形成稳定的络合物。对共聚产物及其Cu2+络合物的介电性能进行了研究,结果表明,随CH2)3NH(CH2)3NH2基团含量增加,介电常数(ε′)和损耗因子(ε″)增大,体积电阻率(ρV)减小,损耗角正切(tgδ)具有极大值。但共聚产物与Cu2+形成络合物后,则ε′减小,ρV增大,ε″和tgδ呈减小趋势。
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