用薄膜理论确定Si_3N_4陶瓷水解反应过程中的平均传质系数k°_cm

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根据Lewis和Whitman的薄膜理论,对Si3N4陶瓷水解反应过程中的平均传质系数k°cm的计算提出了一种新的方法,并讨论了用八田数Hα对k°cm修正的条件。
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