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电沉积Cr-C,Ni-P非晶结构稳定性对C,P含量的依赖性
电沉积Cr-C,Ni-P非晶结构稳定性对C,P含量的依赖性
来源 :北京科技大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:dl612
【摘 要】
:
研究了在高加速电压的电子束作用下,Cr-C、Ni-P非晶镀层结构的稳定性与其组分的关系,发现在远低于晶化温度的条件下,类金属元素含量越低,晶化程度越大。
【作 者】
:
于维平
段淑贞
【机 构】
:
北京航空航天大学,北京科技大学理化系
【出 处】
:
北京科技大学学报
【发表日期】
:
1996年S2期
【关键词】
:
Cr-C
NI-P
非晶镀层
结构稳定性
Cr-C
Ni-P
amorphous film
structure stability
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研究了在高加速电压的电子束作用下,Cr-C、Ni-P非晶镀层结构的稳定性与其组分的关系,发现在远低于晶化温度的条件下,类金属元素含量越低,晶化程度越大。
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