【摘 要】
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采用喷雾热分解（Spray pyrolysis）方法，以NH4F、SnCl2·2H2O为原料，对反应液配方进行了优化，在普通玻璃衬底上制备出了光电性能优良的掺F二氧化锡透明导电薄膜。采用X射线衍射
【机 构】
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中国科学院广州地球化学研究所,中国科学院研究生院,边缘海地质与矿产资源重点实验室
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采用喷雾热分解（Spray pyrolysis）方法，以NH4F、SnCl2·2H2O为原料，对反应液配方进行了优化，在普通玻璃衬底上制备出了光电性能优良的掺F二氧化锡透明导电薄膜。采用X射线衍射仪（XRD）、扫描电镜（SEM）、紫外-可见分光光度计（UV／VIS）对薄膜的结构、形貌、光学、电学特征进行了表征和分析。结果表明：在衬底温度为500℃，NH4F／SnCl2·2H2O的质量百分比为20％，喷涂时间为15s时掺F二氧化锡薄膜的方块电阻最低达到6．2Ω／□，可见光透射率为86．9
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