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基于反应直流溅射法，采用镶嵌有钇粒的金属锆作为靶材，去离子水蒸汽为氧化反应气体，在有Y2O3种子层的双轴织构Ni-5at．％W基带上，系统地研究了温度和卷绕速度对YSZ阻挡层薄膜结构及表面形貌的影响。x射线衍射（XRD）分析表明，生长温度在700％时制备的薄膜呈现明显的（002）取向；原子力显微镜（AFM）分析显示，该温度下制备的薄膜表面致密、无孔洞、无裂纹。在不同的卷绕速度下，虽然薄膜均为纯C轴取向，但其均方根粗糙度（RMS）和微粒大小均有较大差别。快速制备可达到抑制基片表面氧化、助于薄膜取向改善、提高