【摘 要】
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采用单体六甲基二硅氮烷（HMDS）和氧气作为反应气体，采用等离子体增强化学沉积的方法在壳聚糖、PET等基材上沉积薄膜。在薄膜的制备工艺中，改变各种工艺参数制备了阻隔薄膜，通过分
【机 构】
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山东工艺美术学院,北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室
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采用单体六甲基二硅氮烷（HMDS）和氧气作为反应气体，采用等离子体增强化学沉积的方法在壳聚糖、PET等基材上沉积薄膜。在薄膜的制备工艺中，改变各种工艺参数制备了阻隔薄膜，通过分析沉积薄膜厚度、傅里叶红外光谱、水蒸气和氧气的透过率，探讨了薄膜性能的变化。实验证明：等离子体输入功率以及单体的比例对薄膜的选择透过性有很大的影响，利用这种工艺可以很好地改善薄膜的气体透过性。最后对薄膜的选择透过性的机理进行了初步的探讨。
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