【摘 要】
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研究了使用不同研磨液的Cu CMP工艺对超低介电常数(ULK)薄膜介电常数k值的影响。实验结果表明经过Cu CMP工艺,ULK薄膜的介电常数k均有不同程度的增加。XPS成分分析结果表明,U
【机 构】
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中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,
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研究了使用不同研磨液的Cu CMP工艺对超低介电常数(ULK)薄膜介电常数k值的影响。实验结果表明经过Cu CMP工艺,ULK薄膜的介电常数k均有不同程度的增加。XPS成分分析结果表明,ULK薄膜表面C含量的增加是造成介电常数k值升高的主要原因。这主要是由于CMP工艺中,化学品溶液进入多孔的ULK薄膜。而退火工艺可以使得化学品挥发,从而使ULK薄膜表面C含量降低,由此介电常数k基本上得以恢复。初步建立了Cu CMP工艺对介电常数k影响的物理模型。根据模型计算的k结果为2.75,与实测值2.8基本符合。
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