【摘 要】
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研究了纯Ｃｅ和含１５％Ｃｅ（质量分数）的Ｃｏ－Ｃｅ合金在６００～８００℃低氧压下的氧化。纯Ｃｅ氧化后形成ＣｅＯ２的外氧化膜，而Ｃｏ－１５Ｃｅ则形成Ｃｅ的内氧化区。合金的内氧化速度比利用氧在纯Ｃｏ中的扩散系数及溶解度而计算的值快得多，且在７００℃和
【机 构】
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中国科学院金属腐蚀与防护研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳化工学院化工机械系
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研究了纯Ｃｅ和含１５％Ｃｅ（质量分数）的Ｃｏ－Ｃｅ合金在６００～８００℃低氧压下的氧化。纯Ｃｅ氧化后形成ＣｅＯ２的外氧化膜，而Ｃｏ－１５Ｃｅ则形成Ｃｅ的内氧化区。合金的内氧化速度比利用氧在纯Ｃｏ中的扩散系数及溶解度而计算的值快得多，且在７００℃和８００℃时合金的表面上形成了纯金属Ｃｏ的薄层，这均与由Ｃｅ的内氧化产生的体积膨胀而引起的内应力和微裂纹有关。
The oxidation of pure Ce and Co-Ce alloy containing 15% Ce (mass fraction) at 600-800 ℃ under low oxygen pressure was studied. Pure Ce oxidized to form the outer oxide film of CeO2, while Co-15Ce formed the internal oxidized region of Ce. The rate of internal oxidation of the alloy was much faster than the value calculated using the diffusion coefficient and solubility of oxygen in pure Co and a thin layer of pure metal Co was formed on the surface of the alloy at 700 ° C and 800 ° C, The internal stress caused by the volume expansion caused by the internal oxidation of Ce is related to microcracks.
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