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采用动态蒙特卡罗（kinetic Monte Carlo，简称KMC）方法研究物理气相沉积（physical vapor deposition，简称PVD）制备Ni薄膜过程中入射角度对薄膜微观结构的影响。该KMC模型中既包括入射原子与表面之间的碰撞，又包括被吸附原子的扩散。模拟中用动量机制确定被吸附原子在表面上的初始构型，用分子稳态（molecular statics，简称MS）计算方法计算扩散模型中跃迁原子的激活能。对于模拟结果，采用表面粗糙度和堆积密度作为沉积构型评价指标。研究结果表明：当沉积速率是5