石英衬底上溅射制备纳米SiCN薄膜

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：windy_yuan

【摘要】

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利用射频溅射方法在石英玻璃上沉积了纳米结构硅碳氮(SiCN)薄膜.SiCN薄膜表面由平均直径约50nm的SiCN纳米颗粒组成,这些纳米颗粒的紧密分布构造了薄膜的致密表面.纳米SiCN薄

【作者】

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林洪峰谢二庆张军颜小琴陈支勇

【机构】

：

兰州大学物理科学与技术学院

【出处】

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半导体学报

【发表日期】

：

2006年z1期

【关键词】

：

溅射纳米SiCN 薄膜

【基金项目】

：

国家自然科学基金资助项目(批准号:60176002)

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利用射频溅射方法在石英玻璃上沉积了纳米结构硅碳氮(SiCN)薄膜.SiCN薄膜表面由平均直径约50nm的SiCN纳米颗粒组成,这些纳米颗粒的紧密分布构造了薄膜的致密表面.纳米SiCN薄膜呈现出典型的半导体导电特征.通过调整N2流量参数可以获得不同带隙的SiCN薄膜材料,这种带隙可调的纳米结构SiCN薄膜在未来的半导体光电器件应用领域会有广阔的应用前景.

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